Литография — самый важный этап в производстве чипов. На этом шаге формируются микроскопические структуры будущих транзисторов, и любая ошибка стоит дорого. Команда исследователей из Пекина, Цинхуа и Гонконга выяснила, почему даже на хорошо отлаженных DUV-линиях остаются…
В связи с торговым конфликтом США и Китая у последнего проблемы с установками для EUV-литографии и DUV-литографии. В Поднебесную запрещены поставки современного оборудования подобного типа. Соответственно, китайцы не могут массово производить необходимые страные чипы, из-за чего
Пробелы в новых ограничениях на поставку литографического оборудования в Китай — ASML, SMEE, Nikon, Canon, EUV, DUV, ArFi, ArF Dry, KrF и фоторезист Читать далее
Мы продолжаем изучать дефекты, которые можно встретить при рентген-контроле качества печатных узлов. В первой части статьи Александр Патутинский, технолог по подготовке и запуску печатных плат в производство, систематизировал дефекты BGA-корпусов. Кроме них, рентген-снимки…